一．设备简介

半导体 超纯水设备 是应用 于半导体 生产 零件 清洗 的超纯水设备 ，需要 符合 特定 的用水 水质标准 ,半导体 超纯水设备 出水 水质 要符合 美国 ASTM 纯水 水质标准 、中国电子 工业电子级水质 技术标准 (18 MΩ.cm 、15 MΩ.cm 、10 MΩ.cm 、2MΩ.cm 、0. 5M Ω.cm )、半导体 工业用 纯水 指标 、集成电路 水质标准 。 

JDB电子 水务 在满足用户 用水 标准 的基础 上，在设备 系统 中水箱均设有 液位 控制系统 、水泵 均设有 压力 保护装置 、在线 水质检测 控制仪表、电气 采用 PLC可编程控制器，真正做到了无人职守 ，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求 的方法 ，使设备与其它同类产品相比较 ，具有更高的性价比和设备可靠性 。

二．设计标准 及依据

1.根据用户供的详细水质报告 量身定制 ”。

2.水处理设备技术条件 《JB /T2932 -1999 》

3.反渗透水处理设备标准 《CJ /T119 -2000 》

4. 低压开关设备和控制设备成套装置 《IEC439-1》

5. 实验室超纯水技术指标标准 《GB6682 -2008 》

6.电子级超纯水规格 《GB /T11446.1-1997 》

三．工艺流程

原水－原水箱－原水加压泵 －絮凝剂/还原剂－活性炭过滤器 － 超滤－阻垢剂－保安过滤器－一级高压泵－一级反渗透－PH 调节－中间水箱 －二级高压泵－二级反渗透 －纯化水箱－EDI增压水泵-紫外灯杀菌器－精密过滤器－EDI系统－超纯水箱－终端输送泵－TOC脱除器－抛光装置－终端滤器－用水点

目前市场上的工艺根据原水水质和用水水质要求不同，所用工艺也有所不同。

超纯水设备系统工艺介绍：

满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，精密过滤器等预处理系统、双级RO反渗透主机系统、EDI或离子交换混床系统等。

四．设计特点

1.系统采用全自动控制 (同时亦可采用手动控制 ），系统运行时可设定自动反洗、再生程序 ；

2.各单元接线均在工厂内完成 ，减少安装调试 时间 ；

3.一级 反渗透和二级反渗透设有回流管道 ，反渗透设备设有化学清洗装置 ；

4. 管道一般采用304不锈钢和UPVC材质 ；

5. 集成控制系统 和集成 仪表系统等，方便操作管理 ；

6.部件更加耐用，长期无需维修；